Action ciblée dès les premiers signes d'imperfection
Dès l'apparition d'une imperfection naissante, une intervention rapide et localisée permet de préserver l'aspect de l'épiderme. Ce dispositif s'appuie sur une technologie de micro-structures dissolvantes d'avant-garde. Grâce à ce système innovant, il diffuse ses ingrédients actifs directement à la surface de la peau et dans ses couches superficielles afin de cibler la zone concernée dès les premiers signaux et d'en améliorer visiblement l'apparence.
Une synergie d'actifs reconnus pour la peau
La formule combine trois composants phares soigneusement sélectionnés pour leur action complémentaire :
- Acide salicylique (Salicylic Acid) : intervient pour cibler efficacement les imperfections dès leur formation.
- Centella asiatica (Cica) : apporte ses propriétés apaisantes reconnues pour réconforter la zone ciblée.
- Acide hyaluronique (Sodium Hyaluronate) : assure un apport d'hydratation optimal au niveau des couches superficielles.
Technologie de micro-structures dissolvantes Active Point™
Contrairement aux soins cosmétiques classiques appliqués en surface, la technologie Active Point™ repose sur des micro-aiguilles dissolvantes (microneedles) conçues pour libérer les actifs au plus près de la zone ciblée. Cette méthode permet une prise en charge précise du bouton naissant tout en douceur.
Une formule élaborée en Corée
Fabriqué en Corée, ce produit associe une haute expertise technologique à une matrice d'ingrédients complets intégrant du tréhalose, de la glycérine, de l'ectoïne et de l'extrait de Centella asiatica. Sa liste d'ingrédients complète (INCI) rassemble : Sodium Hyaluronate, Trehalose, Glycerin, Ectoin, Aqua, 1,2-Hexanediol, Salicylic Acid, Centella Asiatica Extract, Ethylhexylglycerin.
Récapitulatif du produit
| Caractéristique | Détail |
| Type de produit | Patch anti-imperfections pour boutons naissants |
| Technologie | Micro-structures dissolvantes (Active Point) / Microneedles |
| Format | Format Petit (8 patchs) |
| Origine de fabrication | Fabriqué en Corée |